PVD

製程項目

PVD 真空電鍍 (濺鍍)

PVD 是:Physical Vapor Deposition英文的縮寫,中文意思是:物理氣相沉積。指在真空條件下,靶材分離成分子被導電的貨品吸附形成一層均勻光滑的表面層。PVD 鍍出的膜層硬度高,耐磨性強,耐腐蝕性好,化學性穩定,而且膜層壽命長。因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學性能,鍍後不須再加工。